Bolsas de PD em Física Aplicada e Ciência de Materiais

Post-doctoral fellowships in Applied Physics and Material Science

• Resumo Summary

  Posições oferecidas: Dois (2) anos de Pós-Doutorado (40 horas semanais).
  Data limite para apresentar a solicitação: 31 de julho de 2017.
  Instituição: Universidade Estadual de Campinas (www.unicamp.br/unicamp).
  Endereço: Instituto de Física Gleb Wataghin - Unicamp, R. Sérgio Buarque de Holanda, 777 - Cidade Universitária, Campinas - SP, 13083-859 (https://portal.ifi.unicamp.br).
  Supervisor: Prof. Fernando Alvarez, Departamento de Física Aplicada (IFGW), Unicamp.
  Área de pesquisa: Física Aplicada / Ciência de Materiais.
  
  Requisitos
  O candidato deve possuir doutorado em Ciência de Materiais ou Física Aplicada e sólida formação em algumas (não todas) técnicas de deposição de filmes finos, tais como CVD, PECVD, Sputtering reativo e feixe de íons (Kaufman). Também é recomendada familiaridade com técnicas de caraterização (não todas), tais como SEM, AFM, XRD, XPS, Micro e nano dureza, espectroscopia infravermelha e Ramam.
  
  Área de pesquisa
  As vagas oferecidas estão focadas na investigação e no desenvolvimento de filmes finos (camadas protetoras, "coatings") e interfaces, com o objetivo de melhorar e propor novos materiais nanoestruturados, com propriedades de alta dureza, resistência ao desgaste, baixo atrito (macro e nano) e alta adesão. Materiais como TIN, TiAlN, TiCN, carbono tipo diamante ("diamond like") e TiO2 dopado com terras raras são alguns dos materiais atualmente em estudo.
  
  Descrição do projeto
  A família de recobrimentos duros (ex: TiN, TiAl, TiCN), assim como o carbono tipo diamante ("diamond like"), reúne materiais muito importantes na tecnologia moderna, tanto do ponto de vista da física básica (ex: micro e nanoeletrônica) como nas aplicações industriais (ex: metalurgia, ferramentas de corte, moldes, etc). Propriedades como adesão, tribologia (macro e nanofrição), resistência ao desgaste, interfaces e dureza são muito importantes de controlar em diversas aplicações. O presente projeto foca em pesquisa e desenvolvimento de novos processos, procurando melhorar e propor novos materiais, com o objetivo de controlar a micro e nanoestrutura, assim como a cinética do crescimento via plasma.
  
  Informações adicionais
  O candidato selecionado receberá da FAPESP uma bolsa de Pós-Doutorado correspondente a R$ 6.819,30 mensais, mais um fundo extra de contingência, equivalente a 15% do montante anual da bolsa e que deverá ser utilizado em gastos diretamente relacionados com as atividades de pesquisa. Mais detalhes podem ser consultados em fapesp.br/en/postdoc.
  
  A aplicação deverá ser enviada junto com CV para alvarez@ifi.unicamp.br, no período de 15/07/2017 a 31/07/2017 (identificar a mensagem como "Posição para Bolsa de Pós-Doutorado").

  Offered positions: Two (2) years post-doctoral fellowship (40 hours weekly).
  Application deadline: July 31, 2017.
  Institution: Universidade Estadual de Campinas (www.unicamp.br/unicamp).
  Address: Institute of Physics Gleb Wataghin - Unicamp, R. Sérgio Buarque de Holanda, 777 - Cidade Universitária, Campinas - SP, 13083-859 (https://portal.ifi.unicamp.br/).
  Supervisor: Prof. Fernando Alvarez, Applied Physics Department, Institute of Physics (IFGW).
  Research area: Applied Physics and/or Material Science.
  
  Requirements
  The candidate must have a PhD degree in Applied Physics or Material Science and a strong background in some (not all) techniques such as thin film deposition by CVD, PECVD, Reactive Sputtering, and Broad Ion Beam Deposition (Kaufman). Familiarity with some (not all) characterization techniques such as SEM, AFM, XRD, XPS, Micro and Nano-hardness, Tribology properties, Plasma Nitriding, Infra-Red Spectroscopy, photoluminescence (PL) will also be considered in the selection.
  
  Research area
  The offered positions are focusing in R&D of thin solid films (protective coatings) and interfaces studies with the purposes of improving and proposing novel nano-structured materials obtained by plasma assisted chemical vapor deposition processes, looking for improving properties such as hardness, wear resistance, high adhesion, and friction (macro and nano) for microelectronic, nano-technology applications, and physics of surfaces. Materials such as TIN, TiAlN, TiCN, Diamond Like, and Rare Earth Doped TiO2 are some of the materials investigated.
  
  Project description
  The nitride family hard coatings (e.g. TiN, TiAl, TiCN) as well as diamond like are very important for both basic applied physics and industrial applications. The latter is interesting in metallurgy and the former in areas related to micro and nano-electronic applications. Matters such as adhesion, tribology (low and nano friction), wear resistance, hardness and interfaces contamination are properties very important to master in modern application of these coatings. This project is focusing in new process and studies, looking for improving and developing new materials, exploring ways to control the nano- and microstructure, alloys components, and the kinetic of the plasma to reach the requirements mentioned above.
  
  This opportunity is open to candidates of any nationalities. The selected candidate will receive a FAPESP's Post-Doctoral fellowship in the amount of R$ 6.819,30 monthly and a research contingency fund, equivalent to 15% of the annual value of the fellowship which should be spent in items directly related to the research activity. More information about the fellowship is at: www.fapesp.br/en/5427.
  
  Send application and CV to alvarez@ifi.unicamp.br between 15/07/2017 and 31/07/2017. Subject: Post Doc position.